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半导体芯片加工废水处理案例|半导体芯片加工废水处理方法

的项目后台 该制造业企业公司园密集了十余家半导体设备涉及制造业企业公司,装修设计日除理作用5000吨,要求除理来自于有所不同制造业企业公司的混合法污水补救技术。是因为各制造业企业公司生产加工技术差别大,污水补救技术组成成分更复杂多种多样,除理难易较高。 污废水 组成及收入 废污水大部分包含中国三大类:高浓硫酸氧化还原电位有机化学酸废污水(光刻胶、定影液等)、含氟废污水(刻蚀繁琐流程)和酸碱性废污水(冲洗繁琐流程)。比较特殊组成包含异丙醇、四甲基氢脱色铵等难化学降解有机化学酸物,相应氟化物、化学需氧量等三聚氰胺树脂严重工业废气。废污水COD冲击大(500-3000mg/L),氟化物浓硫酸氧化还原电位100-500mg/L,化学需氧量50-150mg/L。 处理工艺设备方法 采用了"细分提取+分质整理+汇聚强度整理"的多元化形式: 企业内壁区分预外理:含氟焦化废水另外获取并预外理 园区规划FDA监督管理局区分输送带系统化 基础性调试池营养均衡水质量 两极混泥土乳浊液除掉浮悬物和固体 极有效率海洋生物化学反应器(HBR)净化处理有机质污染破坏物 O3崔化钝化溶解难吸附有机肥料物 反构建系统软件做好脱盐治疗 太阳光的红外光线线消毒液切实保障冒水卫生 特别的放置了一直在线监控软件和智能投药软件,如何应对水体质量上下波动。 决定的效果 软件运动一年来,加工处理功能安全稳定安全可靠。满水后COD<30mg/L,氟化物<3mg/L,挥发酚<5mg/L,总氮<15mg/L,符合地下水Ⅳ类规范标准,部位工业废水处理于开发区景观及空气方形冷却塔皮肤补水,工业废水处理率多于30%。第年极大减少刚采水适用约5万吨,为开发区品牌避免浪费煤气费千余千元。

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