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半导体晶圆划片废水怎么处理方法|半导体晶圆划片废水处理案例

业务游戏 背景 该制造业客户为全.球当先的半导体设备首测制造业客户,坐落在广州深圳型地域,常见对其进行中档治疗器的片区和芯片封装软件测试。主要是因为内地的环保规范要求从紧,制造业客户绝对制定一个废污水污水治疗技术标准工作。该项目于2020年开机启动,202两年多6月开工建设建厂,治疗人数为200吨/日,总融资约2000万是。 废水处理工艺材质及源头 某项作用划区工业废水兼有接下来共同点: 高浓硫酸渗透压氟化物,通常来自于晶圆切工后的家电清洗制作工艺,氟铝离子浓硫酸渗透压高至150-200mg/L 所含纳米级级硅粉颗料,粒度分布多在100-500nm两者 可挥发功率因数补偿较高,COD在500-800mg/L 含带少量高价属如铅、镉等 水的电导率高,一般来说在2000-3000μS/cm 清理工艺技术注意事项 为保证 零直接排放指标,工艺流程设计的重在遵循生活污水的分类分类整理和自然资源二手回收: 污水分类别回收利用系統 :将含氟工业化工废水与其他的工业化工废水分离抽取 化工沉定除氟 :运用两极钙盐奠定法,合作高效率的奠定池 高等 硫化进行处理 :二氧化的碳离子液体氧化的生物降解难外理酚类化合物物 膜萃取设计 :采取DTRO碟管式反渗透设备法,溶缩度数为10倍 蒸馏晶粒 :MVR物理蒸汽发生器再缩短蒸发掉器进行处理浓水 晾干系统化 :将晶体盐干躁后当做工业化副服务外售 整理治疗效果 系统软件开机运行数据报告展示: 氟化物剔除率>99.9%,满水后氟阳离子<1mg/L COD总祛除率>98%,水流COD<20mg/L 水产品收售率>95%,仅制造一些结晶体盐 每人每年可再利用高产品品质循环水约六万吨 成果盐纯净度到达重工业级基准,推动教育循环经济巧用 内容不止实行了污水临“0”排放出,还用能源回笼创造自己了约80万元左右/年的额外的回报率。

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