半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
大型项目背景图案
该公司技术生产的光电器件用高纯氟化氢和六氟化钨,污水氟质量浓度挺高且的成分繁多。原来的处置加工过程效果好不稳定可靠,氟化物产生常常超量。该项目融资费用2五百万元建设规划正规处置措施,规划处置作用500吨/天。
废污水含量及的来源
废水处理主要的来自于生孩子环保设备刷洗和有机废气洗衣:
氟铁离子密度:1500-3500mg/L
含硫酸钠根亚铁离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含进样器钨、钼等金属材料成分
外理新工艺流量
对于母液值亮点,采用了"采和+三级水解+膜处置"加工:
废液汇集池:定义汇集不一样溶液浓度废液
采和反应迟钝池:分步骤添加氢阳极防氧化钠和氢阳极防氧化钙,掌控从而pH至7.5-8.
斜板沉淀物中池反應池:加药系统PAC和PAM改善沉淀物中视觉效果
斜管发展池:有效率固液分离处理
多材质过滤装置器:我们要除狗狗细小颗粒剂
反加入装置:纵深脱盐和除氟
活性废水浓缩造成脱水现象情况设计:离心式脱水现象情况后活性废水建筑垃圾清运专门治理
网上监测站系統:雷达回波图监控摄像头氟阳离子氨水浓度和pH值
结果效果好
正确处理设备运动资料:
进水的氟阴阳离子平均值酸度:2800mg/L
留水氟阴离子盐浓度:3.2mg/L(均值)
氟清掉率:99.9%上面的
水回收率:到达65%
模式定时化数量高,做到废水操作方法操作制造费有效降低30%,年回报氟化钙副品牌约400吨。